顯微分光膜厚儀廣泛應用于各種薄膜、涂層光學常數(shù)(nandk)和厚度的精確測量，設備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內即可完成測量和數(shù)據(jù)分析，USB連接計算機控制；薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。
顯微分光膜厚儀特色功能：
•使用顯微光譜法在微小區(qū)域內通過絕.對反射率進行測量，可進行高精度膜厚度/光學常數(shù)分析。
•可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數(shù)的軟件。
•頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
•通過顯微光譜法測量高精度絕.對反射率（多層膜厚度，光學常數(shù)）
•1點1秒高速測量
•顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外至近紅外）
•區(qū)域傳感器的安全機制
•易于分析向導，初學者也能夠進行光學常數(shù)分析
•獨立測量頭對應各種inline客制化需求
•支持各種自定義
測量項目：
•絕.對反射率測量
•多層膜解析
•光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）
更新時間：2021-04-26
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